半导体
在半导体领域从基础研究到工业应用有着关键作用
特点
三维扫描式测头架构
富睿思独有的Marvel型原子力测头具备大范围三维正交扫描能力，可完全规避下扫描式AFM对样品尺寸和重量的限制。
采用柔性铰链平板扫描器消除传统陶瓷管固有拱形畸变
采用两级Z扫描器双反馈控制兼顾量程和速度需求
配备电动调节式同轴显微镜提供高分辨光学图像
配备电磁换针系统实现探针装卸及激光调节完全自动化
定制化大范围精密运动平台及载物台，能够满足不同世代线显示面板及其他大型样品的承载要求
双驱龙门横梁提供原子力测头及白光干涉测头安装工位，可实现双测头跨尺度在机测量
参数
- 扫描器柔性铰链式三维正交扫描器XY扫描范围≥100 μm×100 μmZ扫描范围≥10 μm噪声水平Z方向噪音水平≤0.05 nm RMS值；AFM测头底噪≤45 fm/Hz1/2
- 样品台配备光栅尺载物台尺寸最大可适配8.6代线显示面板最大承重≥20 kgXY行程范围≥1500 mm × 1850 mm 可定制（其他尺寸可定制）位移分辨力0.2 μm重复定位误差±3 μm
- 光学系统物镜支持5X/10X/20X镜头视场840 μm×630 μm（10倍物镜）相机630万像素，彩色CMOS
- 控制器处理器2×FPGA+1×DSP模数转换器（ADC）4×High Speed ADC (40MS/s, 16bit)
6×Middle Speed ADC (1MS/s, 20bit)
4×Low Speed ADC (100kS/s , 24bit)数模转换器（DAC）4×High Speed DAC (50MS/s, 16bit)
6×Middle Speed DAC (1MS/s, 20bit) - AFM模式AFM模式
形貌成像
接触模式（Contact Mode）
轻敲模式（Tapping Mode）
磁学模式
磁力显微镜（MFM）
电学模式
静电力显微镜（EFM）
开尔文探针力显微镜（KPFM）
压电力显微镜（PFM）
力学模式
侧向力显微镜（LFM）
纳米压痕（Nano Indentation）
混合模式
真三维测量模式（True3D）
纳米刻蚀（Nano Lithography）
纳米操纵（Nano Manipulation）
