半导体
在半导体领域从基础研究到工业应用有着关键作用
特点
自动换针系统
AFM-Baritone采用机器视觉辅助的磁控和离合电机调节技术，可实现探针装卸及激光对准的完全自动化。
可减少因手动操作导致的探针污染或损坏
支持测试过程中快速更换不同类型探针，满足多样化测试需求
可降低使用门槛和培训成本，方便新手快速上手
实现换针操作的一致性和稳定性，确保测试数据的重复性和可靠性
特点
自动调校激光系统
AFM-Baritone的自动调校激光系统通过双轴电机驱动，实现激光光路的自动调整，使激光精准地对准探针悬臂背侧的指定位置，并进一步将激光调校至光电探测器的中心区域。
借助精密电机控制和先进算法，实现激光定位的高效、准确与稳定
操作界面直观、简洁，支持一键式操作，方便易用
特点
三维扫描式测头架构
富睿思研制的Marvel型原子力测头具备大范围三维正交扫描能力，可完全规避下扫描架构（样品台扫描）对样品尺寸和重量的限制。
主扫描器采用柔性铰链平板结构，消除传统陶瓷管扫描器固有的拱形畸变
Z轴集成两级压电陶瓷双反馈环路，兼顾量程和速度需求：
- 15 μm大行程扫描器用于低频轮廓跟踪
- 2 μm小行程扫描器用于高频特征反馈
正置光学显微镜实现同轴视觉影像观察，支持自动聚焦、数字变倍及照明调节
特点
True3D真三维扫描模式
富睿思独有的True3D mode采用改进的Flared-tip型CD探针和变角度矢量扫描技术，可一次性获取包括左右侧壁在内的完整三维形貌，能够为用户提供更全面、准确的关键尺寸信息。
无需倾斜样品台
无需旋转测头
无需图像拼接
特点
变速扫描模式
富睿思原子力显微镜搭载的变速扫描技术能够根据样品表面的形貌梯度变化，实时自动调整扫描速度和反馈增益，从而减少针尖磨损，提升形貌测量的准确性和效率。
提升图像清晰度
当探针扫描到样品边界处或表面起伏较大的区域时，系统会自动调整扫描速度，使探针有更充足的时间对样品进行精细探测，确保相应区域图像的清晰度。
延长探针寿命
当探针接近凸起区域时，系统会自动降低速度，从而减小探针与样品间的冲击力，延长探针寿命。
参数
- 扫描器柔性铰链式三维正交扫描器XY扫描范围≥100 μm×100 μmZ扫描范围大Z：≥15 μm（可选 20 μm）；小Z：≥2 μm噪声水平Z方向噪音水平≤0.05 nm RMS值；AFM测头底噪≤45 fm/Hz1/2
- 样品台配备光栅尺最大样品尺寸直径≥200 mm最大承重≥10 kgXY行程范围≥210 mm × 210 mm位移分辨力≤0.1 μm重复定位误差±0.6 μm
- 光学系统物镜支持5X/10X/20X镜头视场840 μm×630 μm（10倍物镜）相机630万像素，彩色CMOS
- 控制器处理器2×FPGA+1×DSP模数转换器（ADC）4×High Speed ADC (40MS/s, 16bit)
6×Middle Speed ADC (1MS/s, 20bit)
4×Low Speed ADC (100kS/s , 24bit)数模转换器（DAC）4×High Speed DAC (50MS/s, 16bit)
6×Middle Speed DAC (1MS/s, 20bit) - AFM模式AFM模式
形貌成像
接触模式（Contact Mode）
轻敲模式（Tapping Mode）
磁学模式
磁力显微镜（MFM）
电学模式
静电力显微镜（EFM）
开尔文探针力显微镜（KPFM）
压电力显微镜（PFM）
力学模式
侧向力显微镜（LFM）
纳米压痕（Nano Indentation）
混合模式
真三维测量模式（True3D）
纳米刻蚀（Nano Lithography）
纳米操纵（Nano Manipulation）
软件
自动化测量软件
富睿思开发的原子力显微镜实时控制软件FreeControl允许用户灵活配置各类扫描控制参数，支持自定义Recipe，可一键执行多点连续自动测量。
自由设置Recipe
可预先设置测试参数和操作步骤，如扫描区域、扫描速度、探针setpoint等，有效确保每次参数设置的一致性，特别是在多点测量中，可以保证不同测量点数据的可比性，提高测量结果的重复性和稳定性。
一键全自动执行，多点自动化连续测量
无需手动操作，效率极高，尤其适合晶圆样品的多点重复性测量。
