半导体
在半导体领域从基础研究到工业应用有着关键作用
AFM-WLI Duet
原子力显微镜与白光轮廓仪原位联用设备
原子力显微镜与白光轮廓仪原位联用设备
AFM-WLI Duet 是桌面型超薄测头原子力显微镜AFM-Piccolo与Linnik型白光轮廓仪WLI-Marimba的同轴集成系统，该系统分别使用白光干涉技术和原子力显微技术实现快速大范围测量和小范围高分辨测量，二者的结合可以为用户提供便捷的原位跨尺度形貌表征方案。
AFM-Piccolo是一款专门为科研用户开发的桌面型原子力显微镜，配备超薄光杠杆式测头，探针上方和前侧空间完全开放，特别适合与各类高分辨光学显微系统原位集成联用。
WLI-Marimba（Linnik型）是一款专门为与原子力显微镜（AFM）联用所设计的基于Linnik形式的长工作距白光轮廓仪，与AFM-Piccolo联用时，能够实现AFM-WLI Duet测头结构的真正集成化，以紧凑、便捷的形式实现高精度形貌测量。
参数
AFM-Piccolo 技术参数
- 扫描器柔性铰链式三维正交扫描器XY扫描范围≥100 μm×100 μmZ扫描范围≥5 μm（可选10 μm/15 μm/20 μm）噪声水平Z方向噪声水平≤0.04 nm RMS值
- 测头超薄型测头有效厚度<8 mm开口宽度10 mm探测器底噪约40 fm/Hz1/2
- 样品台手动样品台样品尺寸直径≤30 mm，厚度≤5 mm下针点水平调整范围±15 mm
WLI-Marimba（Linnik型）技术参数
- 测量单元电机驱动扫描范围100 mm三轴调节方式电控/手动
- 成像单元Linnik型放大倍率10X数值孔径0.28工作距离34 mm横向分辨力1.2 μm
- 测量原理白光干涉术台阶高度测量相对误差0.12% @ 1.762 μm
0.21% @ 181.0 nm
0.33% @ 45.5 nm台阶高度测量重复性0.27% @ 1.762 μm
0.30% @ 181.0 nm
0.28% @ 45.5 nm表面形貌重复性<0.180 nm
应用
在SRAM测试中的应用
AFM-WLI Duet 基于联用系统中的白光干涉测头实现SRAM阵列的大范围快速三维轮廓测量，针对其中关键单元采用原子力测头完成原位高分辨形貌和电学特性表征。
应用
在回形栅格测试中的应用
AFM-WLI Duet 利用白光干涉测头和原子力测头对栅格标样进行原位跨尺度表征，分别获得大范围三维形貌和局部轮廓及粗糙度，并实现两种量测方法对同一位置高度测量结果的比对。
