原子力显微镜（AFM）在LTPS技术的研究与生产测试过程中的作用

低温多晶硅（Low Temperature Polycrystalline Silicon，LTPS）是一种用于制造薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT）的技术，广泛应用于现代显示面板行业，特别是在高端中小尺寸显示器件中，如智能手机、平板电脑、车载显示器、高端笔记本电脑以及新兴的柔性显示和AMOLED（Active-Matrix Organic Light-Emitting Diode）屏幕中。

原子力显微镜（AFM）在LTPS技术的研究与生产测试过程中，扮演着不可或缺的角色。这主要是因为LTPS的核心在于其多晶硅薄膜的表面形貌、结晶质量、晶粒结构、电学特性分布等微观特性，而这些特性直接影响TFT器件的性能，如迁移率、阈值电压、均匀性和可靠性等。原子力显微镜（AFM）作为一种超高分辨率、非破坏性的表面形貌与材料特性分析工具，能够对这些微观特征进行纳米级甚至原子级的表征，为LTPS的工艺优化、缺陷分析、机理研究及产品良率提升提供了关键性的数据支撑。

如下图所示，这是一张扫描范围为5 μm的LTPS晶粒图像，整幅图的粗糙度约为10 nm，晶粒尺寸约为150 nm。

ITO玻璃作为透明导电的关键基础材料，在液晶显示、OLED、触控屏等面板显示技术中扮演着至关重要的角色，其性能直接影响显示效果、触控灵敏度和器件寿命。

原子力显微镜（AFM）则为ITO薄膜提供了高分辨率、多维度的表面与电学特性分析手段，尤其在表面形貌、粗糙度、厚度、导电均匀性、微观缺陷等方面具有不可替代的优势，是研发、生产与失效分析过程中极为重要的表征工具。

两者的结合——即高性能ITO材料与精密的AFM表征技术，共同推动了面板显示技术向更高分辨率、更薄、更柔性、更高灵敏度方向的发展。

如下图所示，这是一张扫描范围为5 μm的OLED表面图像，整幅图的粗糙度为1.27 nm。